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石墨槽板加工在核裂變?cè)碇械倪\(yùn)用
核裂變?cè)?br>    U受理中子的突擊,發(fā)生核裂變釋放出中子和巨大的能量,中子又突擊其他U又釋放出中子和能量,這種連鎖反響非?；罱j(luò),若不能控制中子的速度,就變成了原子彈,若對(duì)中子進(jìn)行控制,就可以運(yùn)用核裂變的能量來發(fā)電核裂變時(shí)放出中子,其動(dòng)能為2MeV(200萬電子伏)量級(jí),速度為2×10m/s。這種中子不易為核燃料所捕獲,因此反響不能繼續(xù)下去。當(dāng)中子能量低于1eV(一電子伏特)時(shí),鈾同位素的裂變幾率活絡(luò)增加。到了熱能規(guī)劃(在300K時(shí)能量為0.025eV或速度為2200m/s)鈾同位素的裂變幾率就變得相當(dāng)大了,減速劑或反射劑有必要具有散射中子的才干時(shí)要有較低的捕獲幾率。散射時(shí)中子還有必要把許多的能量傳遞給靶核。
    在石墨槽板加工中,中子每磕碰一次傳遞的能量大約是本身能量的15%。這樣從裂變中子減速到均勻能量為1eV就需要90次磕碰,減速到熱中子規(guī)劃還需要再加25次磕碰。在減速進(jìn)程中,中子抵達(dá)leV能量時(shí)走的旅程是230cm,花的時(shí)刻是228us。從1eV到熱能規(guī)劃費(fèi)時(shí)140s,行程290cm。因?yàn)檫@些旅程是方向紊亂的許多短的距離組成的,所以對(duì)快中子熱化來說,中子走過的直線距離要小得多,大約為47cm。許多石墨槽板加工減速的反響堆燃料元件擺放的柵距約為20cm與核效果的核截面稱之為核常數(shù)。這種效果的幾率應(yīng)該正比于原子核的截面積,但不同于其幾何面積。有用核截面a指的是元素的微觀截面。原子核的幾何半徑為10-厘米量級(jí),所以的單位為10cm2,稱之為一巴。因?yàn)榱孔有?yīng),a是中子能量的函數(shù),它的數(shù)值可以從核的幾何視而改變到干管其幾何載面。“果中子謝到資料上，因?yàn)樯⑸浠蛭?，其?qiáng)度將接指數(shù)律衰減。微觀械面”(單位為長度的倒數(shù)）定義為：1=X*e4中，1為射到資料正面上的中子束強(qiáng)度；X為中子數(shù)進(jìn)入資料的距離。的量綱為cm和心的關(guān)系為：E=No
    式中，N是單位立方厘米里的原子數(shù)；石墨槽板加工可的量綱是平方厘米。因?yàn)橹凶邮鴱?qiáng)度的衰減是一意班立的進(jìn)程，總微觀截面之：是各個(gè)裁面之和，假定。是微觀散射橫面，二a是微觀吸收截面，那么：Et=Es+Ea
    這些數(shù)值都與能量有關(guān)。在中子減速情況下，二有必要權(quán)衡每個(gè)能量水平下中子減速的時(shí)刻，以得到有用械面三。在反射劑中，熱中子截面E（h)是重要的。最好的減速劑是熱中子吸收前的壽數(shù)s比慢化到1eV的壽數(shù)4長。以此定義：減速劑質(zhì)量要素=t。/t1最好的反射劑要求反射回堆芯的散射幾率比吸收掉的幾率大。一起可以定義：
    反射劑質(zhì)量要素=ES(th)/Ea(th)
    石墨槽板加工與這兩項(xiàng)目標(biāo)有關(guān)的是中子慢化到1eV所通過的直線距離v6L，和中子吸收前的熱書松散距離6L。一般來說，希望L，小，L大。